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        小型等離子去膠機廠家

        簡要描述:小型等離子去膠機廠家的這款產品使用性能出色的組件和軟件,可對工藝參數進行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實現嚴格的質量控制。內置雙層氣浴電極,有效提高清洗效率。配有節流閥,防止真空泵油霧回流。

        • 產品型號:PLUTO-MD(8L)
        • 廠商性質:生產廠家
        • 更新時間:2025-07-02
        • 訪  問  量:7919

        詳細介紹

        等離子去膠機

                  PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機介紹:
         
          去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程,在電子束曝光,紫外曝光等微納米加工工藝后,都要對光刻膠進行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題,將直接影響后續工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件,可對工藝參數進行精確控制。它的工藝監測和數據采集軟件可實現嚴格的質量控制。該技術已經成功的應用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領域。

        等離子去膠機

         

        等離子去膠機

         
          PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機特點:
         
          1. 桌面型,普通實驗臺即可安置。操作簡便上手快、使用成本極低、易于維護。
         
          2.適合于4~6寸硅片及相同面積去膠,可選配硅片專用托盤。
         
          3.內置雙層氣浴電極,有效提高清洗效率。配有節流閥,防止真空泵油霧回流??蛇x配耐用電極,降低長時間使用后的腔體污染。
         
          4.配置200W/13.56MHz等離子發生器。兼顧物理作用和化學作用。
         
          5.具備前后吹掃功能,保證樣品處理潔凈度,可配置獨立吹掃氣路。
         
          6.可選配電極間距可調,對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進行超清洗和表面改性。
         
        等離子去膠機

                   PLUTO-MD(8L)小型等離子去膠機參數:
         
        等離子去膠機參數

                   
                小型等離子去膠機應用: 
        等離子去膠機
         

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